ASML erreicht "erstes Licht" für erste High NA EUV-Anlage

ASML hat das "erste Licht" für sein gewaltiges neues High NA EUV-Lithographiesystem erreicht, bestätigte der niederländische Halbleiterausrüster am Mittwoch, ein Meilenstein, der bedeutet, dass das System funktioniert, wenn auch nicht mit voller Leistung.

Die Leiterin der Technologieentwicklung bei Intel, Ann Kelleher, erwähnte den Fortschritt erstmals während eines Vortrags auf der SPIE Lithographie-Konferenz am Dienstag in San Jose.

ASML bestätigte die Richtigkeit von Kellehers Äußerungen.