Japan Display Inc. und Idemitsu Kosan Co. Ltd. haben gemeinsam erfolgreich einen innovativen polykristallinen Oxid-Halbleiter, Poly-OS, für den Einsatz in einer Vielzahl von Displays entwickelt, darunter tragbare Geräte, Smartphones, metaverse Geräte wie VR, Notebook-PCs und Großbildfernseher. Durch die Integration des neu entwickelten polykristallinen Oxid-Halbleitermaterials von Idemitsu Kosan und der proprietären Backplane2-Technologie von JDI trägt der neue Poly-OS-Halbleiter erheblich zur Verbesserung der Display-Leistung bei, indem er sowohl eine hohe Mobilität als auch einen geringen Leckstrom3 auf Gen 6-Massenproduktionslinien erreicht.

Poly-OS kann auch in großen Gen 8-Produktionslinien und darüber eingesetzt werden, was die Herstellungskosten für Displays erheblich senkt. Sowohl JDI als auch Idemitsu Kosan sind entschlossen, diese innovative Technologie weltweit aktiv zu fördern. Idemitsu Kosan begann 2006 im Rahmen seines Geschäfts mit elektronischen Materialien mit der Entwicklung eines polykristallinen Oxid-Halbleitermaterials IGO (Indium Gallium Oxide) für Flachbildschirme.

IGO verfügt über eine hohe Mobilität, die der von Niedertemperatur-Polysilizium (LTPS)4 entspricht und die mit bestehenden Oxid-Halbleitern nicht erreicht werden konnte, sowie über stabile Dünnschichttransistoreigenschaften (TFT)5, die für Gen 8 und größere Substratlinien verwendet werden können. Sowohl JDI als auch Idemitsu Kosan unterstützen die fortlaufende Entwicklung der Poly-OS-Technologie, damit sie in verschiedenen Anwendungen in der weltweiten Display-Industrie eingesetzt werden kann. JDI und Idemitsu Kosan sind bestrebt, durch die Verbesserung der Display-Leistung, die Weiterentwicklung der globalen Display-Industrie und die Senkung des Energieverbrauchs von Displays zu einer kohlenstoffarmen Gesellschaft beizutragen.