Die Lasertec Corporation gibt bekannt, dass sie erfolgreich eine EUV-Plasma-Lichtquelle mit hoher Helligkeit namens URASHIMA entwickelt hat und die Lichtquelle in ihren Produkten einsetzen wird. Lasertec hat 2019 das weltweit erste aktinische EUV-Maskeninspektionssystem, ACTIS A150, auf den Markt gebracht. Die A150 wurde von Maskenshops und Waferfabriken auf der ganzen Welt angenommen und als unverzichtbares Werkzeug für die Herstellung und Qualifizierung von EUV-Masken für die Produktion von Spitzenhalbleitern anerkannt.

URASHIMA wird auf den aktinischen EUV-Musterprüfsystemen der ACTIS-Serie eingesetzt, um die Leistung weiter zu verbessern. URASHIMA ist eine LPP-Lichtquelle (Laser-Produced-Plasma), die EUV-Licht erzeugt, indem sie Laserpulse auf flüssiges Zinn schießt, das mit hoher Geschwindigkeit rotiert. Das Design wurde für die ACTIS-Optik optimiert, um die Wärmebelastung zu minimieren, Schäden an den Pellikeln zu vermeiden und eine hohe Helligkeit bei der Inspektion der Maske durch die Pellikel zu erreichen.

Eine der größten Herausforderungen für eine EUV-Lichtquelle auf Zinnbasis ist die Vermeidung von Trümmerteilen. URASHIMA ist eine debrisfreie Lichtquelle, die ein von Lasertec entwickeltes Debris-Minimierungssystem verwendet, um eine Kontamination der Maske zu verhindern. Sie verhindert auch die Verschmutzung der Beleuchtungsoptik und erzielt eine höhere Produktivität.

Lasertec hat es sich zur Aufgabe gemacht, einzigartige Lösungen zu entwickeln und zur Qualitäts- und Produktivitätssteigerung der EUV-Lithographie beizutragen.