Nova Ltd. kündigte die zweite Generation des Nova Metrion®-Systems für die In-Line-Sekundärionen-Massenspektrometrie (SIMS) an. Das neue Metrion® enthält wichtige Verbesserungen, darunter eine höhere Empfindlichkeit und einen verbesserten Ladungsausgleich, und kann ab sofort an Kunden ausgeliefert werden. Das Metrion®-System bietet eine einzigartige Inline-Zusammensetzungsprofilierung für wichtige Prozesskontrollmessungen, einschließlich Verunreinigungen, Rückständen und Diffusion, die mit anderen Messverfahren nicht möglich sind.

Diese neueste Version liefert außerdem schnellere Ergebnisse, eine verbesserte Kontrolle der Dotierstoffgleichmäßigkeit und eine bessere Tiefenauflösung. Das neue Metrion® hat 2023 umfangreiche Kundendemonstrationen durchlaufen. Auf der Grundlage bestehender Bestellungen und Evaluierungsvereinbarungen wird die Plattform bei mehreren führenden Kunden installiert, um einen Qualifizierungsprozess in Produktionslinien für die fortschrittlichsten Speicher- und Logikgeräte zu durchlaufen.

Das Unternehmen rechnet damit, erste Umsätze mit der zweiten Generation von Nova Metrion® in der zweiten Hälfte des Jahres 2024 zu erzielen. Nova Metrion® ermöglicht fortschrittliche Materialprofilmessungen, indem es die Sekundärionen-Massenspektrometrie in Halbleiterproduktionslinien einführt. Das System wurde von Grund auf für die Massenproduktion entwickelt und integriert die Analyse auf Waferebene nahtlos in einen automatisierten Arbeitsablauf in der Fabrik, ohne dass Wafer-Coupons an ein externes Labor geschickt werden müssen.

Das System verwendet eine neuartige Detektionstechnologie, die die gleichzeitige Erfassung mehrerer Materialarten ermöglicht, was zu einer höheren Datendichte, einer besseren Tiefenauflösung und einer höheren Empfindlichkeit gegenüber kleinen Konzentrationsänderungen führt.