Bewertung: Axcelis Technologies

Marktwert 4.2 Mrd. 3.64 Mrd. 3.39 Mrd. 3.12 Mrd. 5.89 Mrd. 399 Mrd. 5.95 Mrd. 39.85 Mrd. 15.64 Mrd. 200 Mrd. 15.78 Mrd. 15.43 Mrd. 662 Mrd. KGV 2026 *
55.6x
KGV 2027 * 36.3x
Enterprise Value (EV) 4.2 Mrd. 3.64 Mrd. 3.39 Mrd. 3.12 Mrd. 5.89 Mrd. 399 Mrd. 5.95 Mrd. 39.85 Mrd. 15.64 Mrd. 200 Mrd. 15.78 Mrd. 15.43 Mrd. 662 Mrd. EV / Sales 2026 *
4.98x
EV / Sales 2027 * 4.54x
Streubesitz
99.32%
Rendite 2026 *
-
Rendite 2027 * -
Manager TitelAlterSeit
Vorstandsvorsitzender 55 11.05.2023
Finanzdirektor/CFO 53 12.03.2026
Geschäftsführer - -
Verwaltungsratsmitglied TitelAlterSeit
Direktor/Vorstandsmitglied 72 01.05.2015
Direktor/Vorstandsmitglied 69 13.05.2015
Direktor/Vorstandsmitglied 55 11.05.2023
% % 5 Tage % 1 Jahr Veränd. 3 Jahre Kap.($)
-0.25%+1.54%+146.62%+133.88% 650 Mrd.
-3.25%+21.82%+217.98%+345.24% 385 Mrd.
-5.50%+5.92%+156.75%+165.05% 169 Mrd.
+1.37%+18.84%+304.78%+444.04% 80.51 Mrd.
-7.18%+28.88%+203.96%+104.39% 26.55 Mrd.
+0.68%+36.02%+98.46%+44.07% 22.24 Mrd.
0.00%+14.27%+135.93%+267.52% 16.43 Mrd.
-4.03%+26.43%+191.29%+133.07% 13.73 Mrd.
-3.60%+26.05%+142.94%+90.99% 13.38 Mrd.
Durchschnitt -1.93%+22.37%+177.63%+192.03% 152.94 Mrd.
Gewichteter Durchschnitt nach Marktkapitalisierung -0.61%+14.77%+177.67%+214.07%

Finanzen

2026 *2027 *
Umsatz 844 Mio. 731 Mio. 681 Mio. 627 Mio. 1.18 Mrd. 80.25 Mrd. 1.2 Mrd. 8.01 Mrd. 3.14 Mrd. 40.15 Mrd. 3.17 Mrd. 3.1 Mrd. 133 Mrd. 925 Mio. 801 Mio. 747 Mio. 687 Mio. 1.3 Mrd. 87.98 Mrd. 1.31 Mrd. 8.78 Mrd. 3.45 Mrd. 44.02 Mrd. 3.47 Mrd. 3.4 Mrd. 146 Mrd.
Nettoergebnis 71.7 Mio. 62.1 Mio. 57.89 Mio. 53.24 Mio. 101 Mio. 6.82 Mrd. 102 Mio. 680 Mio. 267 Mio. 3.41 Mrd. 269 Mio. 263 Mio. 11.3 Mrd. 106 Mio. 91.58 Mio. 85.37 Mio. 78.52 Mio. 148 Mio. 10.05 Mrd. 150 Mio. 1 Mrd. 394 Mio. 5.03 Mrd. 397 Mio. 388 Mio. 16.66 Mrd.
Nettoverschuldung - -
Logo Axcelis Technologies
Axcelis Technologies, Inc. ist in erster Linie ein Hersteller von Ionenimplantationsanlagen, die bei der Herstellung von Halbleiterchips in den Vereinigten Staaten, Europa und Asien zum Einsatz kommen. Das Unternehmen konzentriert sich auf die Entwicklung grundlegender Prozessanwendungen durch die Konstruktion, Fertigung und den umfassenden Lebenszyklus-Support von Ionenimplantationssystemen, die einen der entscheidenden Schritte im IC-Herstellungsprozess darstellen. Zu den Produkten des Unternehmens zählen die Systeme „High Current“, „Medium Energy“, „High Energy“, „Mid Current“ und „GSD Ovation“. Die Hochstrom-Ionenimplantatoren der nächsten Generation vom Typ Purion H6 des Unternehmens ermöglichen eine Prozesssteuerung durch die Nutzung ihrer Spot-Beam-Architektur, die für das gesamte Spektrum an Hochstromanwendungen optimiert ist. Der Purion H200 des Unternehmens ist sein hochmoderner Einzelwafer-Hochstrom-Ionenimplanter mit mittlerer Energie. Die Hochenergie-Ionenimplanter der Purion XE-Serie nutzen die RF-Linearbeschleuniger-Technologie (LINAC). Die Purion M-Ionenimplanter des Unternehmens bieten das breiteste Spektrum an verfügbaren Mittelstromdosen.
Beschäftigte
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Trader
Investment
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Gesamt
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Qualität der Veröffentlichungen
ESG MSCI
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