Bewertung: Axcelis Technologies

Marktwert 4.2 Mrd. 3.64 Mrd. 3.41 Mrd. 3.12 Mrd. 5.89 Mrd. 400 Mrd. 5.97 Mrd. 39.93 Mrd. 15.67 Mrd. 200 Mrd. 15.77 Mrd. 15.43 Mrd. 665 Mrd. KGV 2026 *
49.5x
KGV 2027 * 34.7x
Enterprise Value (EV) 4.2 Mrd. 3.64 Mrd. 3.41 Mrd. 3.12 Mrd. 5.89 Mrd. 400 Mrd. 5.97 Mrd. 39.93 Mrd. 15.67 Mrd. 200 Mrd. 15.77 Mrd. 15.43 Mrd. 665 Mrd. EV / Sales 2026 *
4.86x
EV / Sales 2027 * 4.29x
Streubesitz
99.32%
Rendite 2026 *
-
Rendite 2027 * -
Manager TitelAlterSeit
Vorstandsvorsitzender 55 11.05.2023
Finanzdirektor/CFO 53 12.03.2026
Geschäftsführer - -
Verwaltungsratsmitglied TitelAlterSeit
Direktor/Vorstandsmitglied 72 01.05.2015
Direktor/Vorstandsmitglied 69 13.05.2015
Direktor/Vorstandsmitglied 55 11.05.2023
% % 5 Tage % 1 Jahr Veränd. 3 Jahre Kap.($)
+1.31%+5.48%+147.72%+141.97% 661 Mrd.
-0.54%+2.70%+218.71%+342.85% 383 Mrd.
-1.50%-1.80%+159.28%+161.08% 159 Mrd.
+0.34%+17.82%+310.34%+445.87% 80.88 Mrd.
-13.55%-1.19%+162.05%+76.70% 24.52 Mrd.
-1.99%+21.81%+97.49%+41.20% 21.8 Mrd.
-4.42%+3.85%+123.29%+251.28% 16.34 Mrd.
-2.64%+7.26%+198.56%+126.90% 13.37 Mrd.
+0.56%+12.23%+143.85%+92.06% 13.46 Mrd.
Durchschnitt -2.00%+13.09%+173.48%+186.66% 152.55 Mrd.
Gewichteter Durchschnitt nach Marktkapitalisierung +0.70%+5.03%+178.04%+215.96%

Finanzen

2026 *2027 *
Umsatz 864 Mio. 749 Mio. 702 Mio. 642 Mio. 1.21 Mrd. 82.26 Mrd. 1.23 Mrd. 8.21 Mrd. 3.22 Mrd. 41.1 Mrd. 3.24 Mrd. 3.17 Mrd. 137 Mrd. 979 Mio. 850 Mio. 795 Mio. 728 Mio. 1.37 Mrd. 93.25 Mrd. 1.39 Mrd. 9.31 Mrd. 3.65 Mrd. 46.59 Mrd. 3.68 Mrd. 3.6 Mrd. 155 Mrd.
Nettoergebnis 77.88 Mio. 67.59 Mio. 63.29 Mio. 57.89 Mio. 109 Mio. 7.42 Mrd. 111 Mio. 740 Mio. 291 Mio. 3.71 Mrd. 292 Mio. 286 Mio. 12.34 Mrd. 115 Mio. 99.52 Mio. 93.19 Mio. 85.24 Mio. 161 Mio. 10.92 Mrd. 163 Mio. 1.09 Mrd. 428 Mio. 5.46 Mrd. 431 Mio. 421 Mio. 18.17 Mrd.
Nettoverschuldung - -
Logo Axcelis Technologies
Axcelis Technologies, Inc. ist in erster Linie ein Hersteller von Ionenimplantationsanlagen, die bei der Herstellung von Halbleiterchips in den Vereinigten Staaten, Europa und Asien zum Einsatz kommen. Das Unternehmen konzentriert sich auf die Entwicklung grundlegender Prozessanwendungen durch die Konstruktion, Fertigung und den umfassenden Lebenszyklus-Support von Ionenimplantationssystemen, die einen der entscheidenden Schritte im IC-Herstellungsprozess darstellen. Zu den Produkten des Unternehmens zählen die Systeme „High Current“, „Medium Energy“, „High Energy“, „Mid Current“ und „GSD Ovation“. Die Hochstrom-Ionenimplantatoren der nächsten Generation vom Typ Purion H6 des Unternehmens ermöglichen eine Prozesssteuerung durch die Nutzung ihrer Spot-Beam-Architektur, die für das gesamte Spektrum an Hochstromanwendungen optimiert ist. Der Purion H200 des Unternehmens ist sein hochmoderner Einzelwafer-Hochstrom-Ionenimplanter mit mittlerer Energie. Die Hochenergie-Ionenimplanter der Purion XE-Serie nutzen die RF-Linearbeschleuniger-Technologie (LINAC). Die Purion M-Ionenimplanter des Unternehmens bieten das breiteste Spektrum an verfügbaren Mittelstromdosen.
Beschäftigte
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Trader
Investment
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Gesamt
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Qualität der Veröffentlichungen
ESG MSCI
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