ASML HOLDING N.V. 
Die Maschine, die am Freitag zum ersten Mal in der niederländischen Zentrale des nach Marktwert größten europäischen Technologieunternehmens ausgestellt wurde, richtet sich an Intel und andere Hersteller von Halbleitern der Spitzenklasse.
ASML sagte, man erwarte, in diesem Jahr "einige" dieser Maschinen auszuliefern, und es müsse noch an der Anpassung und Installation gearbeitet werden.
"Wir arbeiten weiter an der Konstruktion und Entwicklung und es gibt noch viel zu tun, um das System zu kalibrieren und sicherzustellen, dass es in das Fertigungssystem passt", sagte ASML-Sprecherin Monique Mols. "Es gibt auch eine steile Lernkurve für uns und unsere Kunden."
ASML ist der einzige Hersteller einer Schlüsseltechnologie - der extrem ultravioletten (EUV) Photolithographie - die für die Herstellung der modernsten Chips benötigt wird.
High NA EUV ist die nächste Generation dieser Technologie. Analysten sagten jedoch, es sei eine offene Frage, wie viele Kunden bereit sind, auf die hochpreisigen Geräte umzusteigen.
"Einige Chiphersteller werden sie vielleicht schon früher einführen, um die Technologieführerschaft zu erlangen, aber die Mehrheit wird sie erst einführen, wenn sie wirtschaftlich sinnvoll ist", so Jeff Koch von Semianalysis.
Die Kunden könnten sich dafür entscheiden, zu warten und mehr aus den vorhandenen Tools herauszuholen. Kochs eigenen Berechnungen zufolge würde sich ein Umstieg von der älteren Technologie erst zwischen 2030 und 2031 rechnen.
"Das bedeutet, dass ASML wahrscheinlich über überschüssige High-NA-Kapazitäten verfügen wird, wenn die Fabrik 2027-28 hochgefahren und einige Jahre später vollständig in die Spitzenlogik integriert wird", fügte er hinzu.
Peter Wennink, CEO von ASML, sagte im Januar gegenüber Reuters, dass die Analysten die Technologie möglicherweise unterschätzen.
"Alles, was wir derzeit in der Diskussion mit unseren Kunden sehen, ist, dass High NA billiger ist", sagte er in einem Interview.
Greet Storms, Leiter des Produktmanagements für High NA bei ASML, sagte am Freitag, dass der Wendepunkt um die Jahre 2026-2027 herum eintreten wird.
"Das ist der Punkt, an dem die Kunden es in die Massenproduktion übernehmen werden", sagte sie gegenüber Reportern.
Intel hat bereits ein Pilotgerät in Empfang genommen und plant, im nächsten Jahr mit der Produktion zu beginnen, ohne jedoch Einzelheiten über den Umfang des Vorhabens zu nennen.
TSMC und Samsung haben erklärt, dass sie beabsichtigen, das Tool zu nutzen, haben aber nicht angegeben, wann.
ASML hat nach eigenen Angaben bisher zwischen 10 und 20 Aufträge erhalten - darunter Pilotgeräte für die Speicherspezialisten SK Hynix und Micron - und baut seine Kapazitäten aus, um bis 2028 jährlich 20 Geräte liefern zu können.
Keiner dieser Aufträge wird nach China gehen, dem zweitgrößten Markt von ASML im vergangenen Jahr, da die Vereinigten Staaten versuchen, die Exporte von Spitzentechnologie dorthin einzuschränken und Pekings Halbleiterambitionen zu bremsen.
Letzten Monat hat das Unternehmen, das als Vorreiter in der Chipindustrie gilt, jedoch eine Erklärung abgegeben,
berichtete
einen robusten Auftragsbestand, was die Bedenken der Investoren, dass die Beschränkungen für China die Performance beeinträchtigen könnten, zerstreute.
Eine schnelle Einführung des Werkzeugs würde den Umsatz und die Margen von ASML steigern und könnte die dominante Position des Unternehmens auf dem Markt für Lithografiesysteme ausbauen. Dabei handelt es sich um Maschinen, die mit Hilfe von Licht Muster auf Siliziumwafern nachzeichnen, aus denen schließlich die Schaltkreise von Computerchips entstehen.
Mit dem High NA-Tool können Chiphersteller die Größe der kleinsten Strukturen auf ihren Chips um bis zu 40% verringern, wodurch sich die Transistordichte fast verdreifacht.
ASML konkurriert mit den japanischen Unternehmen Nikon und Canon bei der Herstellung von Lithographie-Maschinen, die für die Herstellung relativ älterer Generationen von Chips verwendet werden.
Doch Ende der 2010er Jahre brachte das niederländische Unternehmen als erstes und einziges Unternehmen ein Lithographiegerät auf den Markt, das mit EUV, also Licht mit einer Wellenlänge von 13,5 Nanometern, arbeitet.
Sowohl das Original als auch die High NA Maschine erzeugen EUV-Licht, indem sie Zinntröpfchen mit zwei Laserpulsen 50.000 Mal pro Sekunde verdampfen.
Laut ASML besteht die größte Neuerung der High NA-Maschine in einem größeren optischen System, das aus unregelmäßig geformten Spiegeln von Carl Zeiss besteht, die so glatt poliert sind, dass sie in einem Vakuum gehalten werden müssen. Sie sammeln und fokussieren mehr Licht als ihre Vorgänger - High NA steht für hohe numerische Apertur - was nach Angaben des Unternehmens zu einer besseren Auflösung führt. ($1 = 0,9269 Euro) (Bericht von Toby Sterling; Bearbeitung durch Andrew Heavens)
